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半導體硅片清洗工藝發(fā)展方向

半導體硅片清洗工藝發(fā)展方向

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級別:| 積分:0 分 | 瀏覽:81038 | 大。453.04KB | 下載:4469 次 | 上傳:2013-09-30

簡介:

對半導體硅片傳統(tǒng)的RCA清洗辦法中各種清洗液的清洗原理、清洗特點、清洗局限以及清洗對硅片表面微觀狀態(tài)的影響進行了詳細的論述,同時在此基礎上,對新的清洗辦法(改進的RCA清洗辦法)進行了一定的說明,指出了硅片清洗工藝的發(fā)展方向。

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